euv光源样机可以生产7纳米以下的芯片。

因为该光源采用极紫外光技术，可以在短波长下进行制作，且相比传统光刻技术，极紫外光技术的光源具有更高的能量和更小的波长，能够更精确地制作芯片。

同时，该光源的使用需要严格的环境控制和专业人员操作，因此只能在实验室等特定条件下进行生产。

此外，euv光源样机生产的芯片不仅技术含量高，且生产成本也十分昂贵，目前只有少数专业厂商才具备生产能力。